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적절한 표면 개질제는 나노 ZnO 제조에 결정적인 역할을 합니다.
2020-11-20 00:42:15

적합한 표면 개질제의 선택은 나노 ZnO 제조에 결정적인 역할을 합니다. 사용하기 전에 처리 대상물의 적용 목적 및 요구 사항, 입자 크기, 입자 크기 분포, 입자 형태, 표면 극성 및 처리 프로세스를 고려해야 합니다.


Alkyl polyglycoside


합성 과정에서 계면활성제는 반응의 "부드러운 주형" 역할을 하여 결정 방향 성장을 도울 수 있습니다. 화학적 흡착과 특정 결정 표면 선택성을 통해 입자의 모양이 더욱 다양해지며 다양한 형태를 나타냅니다. 폴리에틸렌 글리콜 220000(peg220000)을 계면활성제로 사용하여 열수 조건에서 200℃에서 꽃과 같은 ZnO를 제조하였고, 특정 온도에서 계면활성제를 CTAB(cetyltrimethylimon bromide)로 변경하여 원주형 및 막대형 ZnO를 제조할 수 있었다. SDBS(소듐 도데실 벤젠 설포네이트), 소듐 도데실 설페이트(SDS) 및 소듐 도데실 카르복실레이트는 다양한 형태의 ZnO 나노물질을 제조하기 위한 계면활성제로 종종 사용됩니다.

PEG-400, 불포화 지방산 트윈-60 및 PAAS가 ZnO 나노입자의 크기 및 표면 형태에 미치는 영향을 연구했습니다. 그 결과, PEG의 입체장애 효과는 ZnO 나노입자의 표면장력을 감소시키고, 입자간 결합을 감소시키며, 나노입자의 입자 크기를 감소시키는 데 좋은 효과가 있음을 보여주었으며, 이를 어느 정도 방지하는 효과로 입자 크기를 효과적으로 감소시킬 수 있다. 그러나 불포화지방산 트윈-60과 저폴리아크릴산 나트륨 PAAS를 사용하면 분말 표면의 미세 기공을 차지할 수 있어 분말의 비표면적이 감소하여 나노산화아연의 분산이 잘 된다.

산화아연 입자의 크기 및 형태에 대한 이온성(도데실 황산나트륨, 세틸트리메틸아민 브로마이드) 및 비이온성(Tween-80, 폴리에틸렌 글리콜-6000) 표면 개질제의 효과를 비교함으로써, 황산도데실나트륨은 전구체의 분산이 양호하고 산화아연 나노미터의 입자 크기도 작다는 것을 보여줍니다(약 80nm). 폴리에틸렌 글리콜-6000은 나노 입자로 효과적으로 감쌀 수 있습니다. 결과는 ZnO 입자의 표면이 입자가 수렴하여 두 번째 응집체를 형성하는 것을 방지할 수 있으며 나노 ZnO 입자는 약 95nm입니다. 세틸트리메틸아민 브로마이드(cetyltrimethylamine bromide)는 양이온성 변형제이며 나노 ZnO의 전구체와 동일한 전하를 가지고 있습니다. 상호 반발력으로 인해 활성제가 전구체 입자의 표면을 효과적으로 감싸지 못하여 입자가 뭉치기 쉽습니다. ZnO 나노입자의 크기는 약 203nm입니다.

화학적 침전에 의해 제조된 ZnO 입자의 크기에 대한 다양한 계면활성제의 영향을 조사하였다. 결과는 음이온 계면활성제 유화에 의해 합성된 ZnO가 작은 입자 크기, 균일한 구조, 우수한 분산성 및 저온에서 높은 가스 감도를 가짐을 보여줍니다. Liao Lilinget al. 질산아연과 옥살산을 원료로 하여 직접침전법으로 합성한 옥살산아연 전구체에 각종 계면활성제를 첨가한 후 열분해하여 나노산화아연 분말을 얻습니다. 2% 계면활성제를 첨가하면 ZnO 나노입자의 입자 크기를 효과적으로 줄일 수 있습니다. 그 중 폴리에틸렌글리콜-400의 효과는 상당하다.


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